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主要组成 设备由真空镀膜室、蒸发源、卡具、真空机组、蒸发电源、控制系统与辅助装置等组成。 主要特点 配有石英晶体或光学膜厚控制仪，可以实现膜厚镀膜自动控制，实现高精度的镀膜效果。 配RF离子轰击装置达到净化基体表面的作用，使膜与基体表面附着力更好，提高膜层的强度。 可同时蒸镀两种以上不同的蒸镀材料，可制成复合膜。 操作简便、适应生产、科研的理想设备。 具有过流、过压保护及断水、欠压保护及电气互锁的功能。 锦州航星真空镀膜设备有限公司成立于2000年6月，具有雄厚的技术研发能力及精良的大型生产装备、产品检测设备，设施先进的工艺实验室，充分满足产品研制、开发、生产、试验的需求。 真空镀膜机薄膜均匀性的概念 1.厚度上的均匀性，也可以理解为粗糙度，在光学薄膜的尺度上看（也就是1/10波长作为单位，约为100A），真空镀膜的均匀性已经相当好，可以轻松将粗糙度控制在可见光波长的1/10范围内，也就是说对于薄膜的光学特性来说，真空镀膜没有任何障碍。 但是如果是指原子层尺度上的均匀度，也就是说要实现10A甚至1A的表面平整，是现在真空镀膜中主要的技术含量与技术瓶颈所在，具体控制因素下面会根据不同镀膜给出详细解释。 2.化学组分上的均匀性： 就是说在薄膜中，化合物的原子组分会由于尺度过小而很容易的产生不均匀特性，SiTiO3薄膜，如果镀膜过程不科学，那么实际表面的组分并不是SiTiO3，而可能是其他的比例，镀的膜并非是想要的膜的化学成分，这也是真空镀膜的技术含量所在。 具体因素也在下面给出。 3.晶格有序度的均匀性： 这决定了薄膜是单晶，多晶，非晶，是真空镀膜技术中的热点问题，具体见下。 主要分类 主要分类有两个大种类： 蒸发沉积镀膜和溅射沉积镀膜，具体则包括很多种类，包括真空离子蒸发，磁控溅射，MBE分子束外延，溶胶凝胶法等等 。 一、对于蒸发镀膜： 一般是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来，并且沉降在基片表面，通过成膜过程（散点－岛状结构-迷走结构-层状生长）形成薄膜。 厚度均匀性主要取决于： 1。基片材料与靶材的晶格匹配程度 2、基片表面温度 3. 蒸发功率，速率 4. 真空度 5. 镀膜时间，厚度大小。 (责任编辑：admin) |
